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Ti合金如何直流磁控溅射得到TiO2啊，急！ 已有1人参与
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| 有一个问题请教大家。我用钛和铌的合金直流溅射希望薄膜成分是Nb:TiO2,得到的薄膜用XRD测不是TiO2的峰，不知是什么原因。参数：f(O2)/f(O2)+f(Ar)=10%,溅射功率200W，本底真空度3.8*10-4，靶基距6cm，工作压强1.0Pa,Ts=TR,溅射时间74分钟，原位退火550度，时间1小时，压强1Pa。怎样才能达到我希望得到的呢，老板催得紧，急啊。 |
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