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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 晶体 » 测试表征 » Ti合金如何直流磁控溅射得到TiO2啊，急！
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ly2829

铁虫 (小有名气)

[求助] Ti合金如何直流磁控溅射得到TiO2啊，急！ 已有1人参与

有一个问题请教大家。我用钛和铌的合金直流溅射希望薄膜成分是Nb:TiO2,得到的薄膜用XRD测不是TiO2的峰，不知是什么原因。参数：f(O2)/f(O2)+f(Ar)=10%,溅射功率200W，本底真空度3.8*10-4，靶基距6cm，工作压强1.0Pa,Ts=TR,溅射时间74分钟，原位退火550度，时间1小时，压强1Pa。怎样才能达到我希望得到的呢，老板催得紧，急啊。
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1楼 2016-06-30 16:56:37
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Friend007

银虫 (知名作家)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
反应溅射和溅射电压，电流关系密切，楼主应确定产物是氧化物而不是金属，另反应溅射用射频电源会好些。

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2楼2016-07-01 07:15:36
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ly2829

铁虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by Friend007 at 2016-07-01 07:15:36
反应溅射和溅射电压，电流关系密切，楼主应确定产物是氧化物而不是金属，另反应溅射用射频电源会好些。

反应溅射用射频电源会好些？比直流溅射好在哪里？
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3楼2016-07-05 09:36:29
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