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我就是me

新虫 (初入文坛)

[求助] 用磁控溅射法镀铝膜的沉积速率过低,可能的原因有哪些?

用磁控溅射法镀铝膜的沉积速率过低,可能的原因有哪些,选用的功率,沉积气压都正常?
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踏实认真
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我就是me

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by Friend007 at 2016-04-23 07:21:55
请楼主描述下工艺参数

直流溅射,沉积气压:0.2Pa,功率:100W,Ar流量:100Sccm
踏实认真
3楼2016-04-25 09:27:31
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Friend007

银虫 (知名作家)


2楼2016-04-23 07:21:55
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Friend007

银虫 (知名作家)


引用回帖:
3楼: Originally posted by 我就是me at 2016-04-25 09:27:31
直流溅射,沉积气压:0.2Pa,功率:100W,Ar流量:100Sccm...

加大功率试试

发自小木虫Android客户端
4楼2016-04-25 17:39:51
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东东那个东

金虫 (正式写手)

★ ★
我就是me(keailinger代发): 金币+2, 感谢发帖应助。 2016-06-22 08:45:43
您的仪器是哪家生产的?不仪器其出厂设置参数不一样。
我的实验仪器在遇到沉积速率低时:
1、我会观察气压是不是太低,仪表有时是靠不住的,或者说滞后太明显。
2、回想基底有没有清洗过或者有没有清洗干净
3、预溅射时间是不是太短了,表面氧化膜有没有打掉
4、腔体漏气。
头疼
5楼2016-06-21 16:43:38
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