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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 工艺技术 » 膜技术 » 用磁控溅射法镀铝膜的沉积速率过低，可能的原因有哪些？
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我就是me

新虫 (初入文坛)

[求助] 用磁控溅射法镀铝膜的沉积速率过低，可能的原因有哪些？

用磁控溅射法镀铝膜的沉积速率过低，可能的原因有哪些，选用的功率，沉积气压都正常？
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踏实认真
1楼 2016-04-22 11:02:27
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我就是me

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by Friend007 at 2016-04-23 07:21:55
请楼主描述下工艺参数

直流溅射，沉积气压：0.2Pa，功率：100W，Ar流量：100Sccm
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踏实认真
3楼2016-04-25 09:27:31
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Friend007

银虫 (知名作家)
请楼主描述下工艺参数

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2楼2016-04-23 07:21:55
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Friend007

银虫 (知名作家)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 我就是me at 2016-04-25 09:27:31
直流溅射，沉积气压：0.2Pa，功率：100W，Ar流量：100Sccm...

加大功率试试

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4楼2016-04-25 17:39:51
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东东那个东

金虫 (正式写手)
★ ★
我就是me(keailinger代发): 金币+2, 感谢发帖应助。 2016-06-22 08:45:43
您的仪器是哪家生产的？不仪器其出厂设置参数不一样。
我的实验仪器在遇到沉积速率低时：
1、我会观察气压是不是太低，仪表有时是靠不住的，或者说滞后太明显。
2、回想基底有没有清洗过或者有没有清洗干净
3、预溅射时间是不是太短了，表面氧化膜有没有打掉
4、腔体漏气。
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头疼
5楼2016-06-21 16:43:38
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