[求助] 用磁控溅射法镀铝膜的沉积速率过低，可能的原因有哪些？

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踏实认真

1楼2016-04-22 11:02:27

Friend007

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请楼主描述下工艺参数

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2楼2016-04-23 07:21:55

我就是me

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引用回帖:

2楼: Originally posted by Friend007 at 2016-04-23 07:21:55
请楼主描述下工艺参数

直流溅射，沉积气压：0.2Pa，功率：100W，Ar流量：100Sccm

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3楼2016-04-25 09:27:31

Friend007

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引用回帖:

3楼: Originally posted by 我就是me at 2016-04-25 09:27:31
直流溅射，沉积气压：0.2Pa，功率：100W，Ar流量：100Sccm...

加大功率试试

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4楼2016-04-25 17:39:51

东东那个东

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★ ★
我就是me(keailinger代发): 金币+2, 感谢发帖应助。 2016-06-22 08:45:43

您的仪器是哪家生产的？不仪器其出厂设置参数不一样。
我的实验仪器在遇到沉积速率低时：
1、我会观察气压是不是太低，仪表有时是靠不住的，或者说滞后太明显。
2、回想基底有没有清洗过或者有没有清洗干净
3、预溅射时间是不是太短了，表面氧化膜有没有打掉
4、腔体漏气。

头疼

5楼2016-06-21 16:43:38

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请问楼主问题解决了吗？我目前也遇到这样的问题，想知道怎么解决的，谢谢

香蕉、苹果

6楼2022-04-12 20:21:18