| 查看: 1763 | 回复: 17 | |||
[求助]
溅射氧化铬的薄膜，XRD测试是非晶，好难过，请问怎么使得溅射上去的直接是晶体。 已有4人参与
|
最近做磁控，我用的是直流。条件：功率25w，氩氧比9：1 ，9：3 ，9：4 ，9：6 溅射时间是二十分钟，基底温度是三百度。在玻璃基底溅射的，昨天测XRD全部显示为非晶，查阅关于氧化铬薄膜的相关文献，发现做RF的比较多，RF的各项条件对于DF不适应吧我想，所以我现在也很愁，不知道条件怎么改，我才十九岁，各位哥哥姐姐学到的知识比我丰富太多，希望大家帮帮我。呜呜呜 |
回复此楼» 收录本帖的淘帖专辑推荐
 薄膜材料和器件制备 |
» 猜你喜欢
280求调剂
已经有3人回复
-
085400 328分 求调剂
已经有7人回复
-
材料专硕322
已经有12人回复
-
一志愿华中农微生物，288分，三年实验经历
已经有3人回复
-
314求调剂
已经有14人回复
-
调剂 化学 307
已经有11人回复
-
化学工程与技术专业一志愿哈工程 291分B区 国家级大创负责人 有一作论文
已经有10人回复
-
材料299专硕求调剂
已经有5人回复
-
083200 初试305分 求调剂
已经有10人回复
-
332，085601求调剂
已经有3人回复
2楼2016-04-09 10:01:52
qlihustmsti
金虫 (小有名气)
- 应助: 1 (幼儿园)
- 金币: 1436.6
- 散金: 23
- 红花: 1
- 帖子: 164
- 在线: 118.9小时
- 虫号: 1462665
- 注册: 2011-10-26
- 专业: 无机非金属类光电信息与功
3楼2016-04-09 16:52:49
4楼2016-04-09 21:39:35
5楼2016-04-10 08:01:56
 |
6楼2016-04-10 09:38:29
|
|
7楼2016-04-10 20:08:38
   |
8楼2016-04-11 12:24:25
9楼2016-04-11 17:18:27
10楼2016-04-11 18:37:18
