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光刻镀Ni膜
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有人做过磁控溅射镀Ni,后面图形化光刻去胶,但是Ni容易氧化,去胶难以去干净,对于这个氧化,大家有什么好的建议呢?
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1楼
2016-03-28 16:01:45
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【答案】应助回帖
感谢参与,应助指数 +1
你这个可能不是Ni氧化的问题,已经站内联系,注意查收!
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2楼
2016-03-28 16:47:48
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2楼
:
Originally posted by
盟维科技
at 2016-03-28 16:47:48
你这个可能不是Ni氧化的问题,已经站内联系,注意查收!
那是什么问题呢?
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3楼
2016-03-28 18:54:24
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【答案】应助回帖
这就是lift-off工艺吧?什么胶?Ni层厚度和胶厚各是多少?
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4楼
2016-04-01 22:03:51
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4楼
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Originally posted by
exciting73
at 2016-04-01 22:03:51
这就是lift-off工艺吧?什么胶?Ni层厚度和胶厚各是多少?
谢谢,是的,lift-off 用的是4000A,胶厚可以达到3um,膜厚大约0.8um,按道理应该比较容易去掉的,可是很难去掉,大神你觉得是什么原因呢?
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5楼
2016-04-15 11:46:21
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:
Originally posted by
天国之王
at 2016-04-15 11:46:21
谢谢,是的,lift-off 用的是4000A,胶厚可以达到3um,膜厚大约0.8um,按道理应该比较容易去掉的,可是很难去掉,大神你觉得是什么原因呢?...
光刻的陡直度有没有检测下
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6楼
2016-04-17 13:15:27
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可能是烘干时候的温度太高了。
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2016-04-17 14:56:16
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5楼
:
Originally posted by
天国之王
at 2016-04-15 11:46:21
谢谢,是的,lift-off 用的是4000A,胶厚可以达到3um,膜厚大约0.8um,按道理应该比较容易去掉的,可是很难去掉,大神你觉得是什么原因呢?...
用负胶好些,容易剥离。有需要请站内联系。
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8楼
2016-04-18 19:43:56
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怎么样,问题解决了吗
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9楼
2016-04-21 09:38:26
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杨建军205
at 2016-04-17 14:56:16
可能是烘干时候的温度太高了。
坚膜的时候吗?应该不会的,按照说明书的温度来的
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10楼
2016-04-25 21:58:01
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