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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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天国之王

新虫 (小有名气)

[求助] 光刻镀Ni膜 已有4人参与

有人做过磁控溅射镀Ni，后面图形化光刻去胶，但是Ni容易氧化，去胶难以去干净，对于这个氧化，大家有什么好的建议呢？
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1楼 2016-03-28 16:01:45
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盟维科技

捐助贵宾 (小有名气)

专家
引用回帖:
5楼: Originally posted by 天国之王 at 2016-04-15 11:46:21
谢谢，是的，lift-off  用的是4000A，胶厚可以达到3um，膜厚大约0.8um，按道理应该比较容易去掉的，可是很难去掉，大神你觉得是什么原因呢？...

光刻的陡直度有没有检测下
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6楼2016-04-17 13:15:27
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盟维科技

捐助贵宾 (小有名气)

专家

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
你这个可能不是Ni氧化的问题，已经站内联系，注意查收！
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2楼2016-03-28 16:47:48
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天国之王

新虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 盟维科技 at 2016-03-28 16:47:48
你这个可能不是Ni氧化的问题，已经站内联系，注意查收！

那是什么问题呢？
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3楼2016-03-28 18:54:24
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exciting73

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

这就是lift-off工艺吧？什么胶？Ni层厚度和胶厚各是多少？
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4楼2016-04-01 22:03:51
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查看全部 19 个回答
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