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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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天国之王

新虫 (小有名气)

[求助] 光刻镀Ni膜 已有4人参与

有人做过磁控溅射镀Ni,后面图形化光刻去胶,但是Ni容易氧化,去胶难以去干净,对于这个氧化,大家有什么好的建议呢?
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exciting73

金虫 (著名写手)


【答案】应助回帖

引用回帖:
5楼: Originally posted by 天国之王 at 2016-04-15 11:46:21
谢谢,是的,lift-off  用的是4000A,胶厚可以达到3um,膜厚大约0.8um,按道理应该比较容易去掉的,可是很难去掉,大神你觉得是什么原因呢?...

用负胶好些,容易剥离。有需要请站内联系。
8楼2016-04-18 19:43:56
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查看全部 19 个回答

盟维科技

捐助贵宾 (小有名气)

专家


【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
你这个可能不是Ni氧化的问题,已经站内联系,注意查收!
2楼2016-03-28 16:47:48
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天国之王

新虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by 盟维科技 at 2016-03-28 16:47:48
你这个可能不是Ni氧化的问题,已经站内联系,注意查收!

那是什么问题呢?
3楼2016-03-28 18:54:24
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exciting73

金虫 (著名写手)


【答案】应助回帖

这就是lift-off工艺吧?什么胶?Ni层厚度和胶厚各是多少?
4楼2016-04-01 22:03:51
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