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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 磁控溅射时加负偏压对薄膜结晶度的影响
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yangyueyf

银虫 (正式写手)

[求助] 磁控溅射时加负偏压对薄膜结晶度的影响 已有2人参与

本菇凉使用CZTS靶材磁控溅射CZTS时，发现溅射后的CZTS薄膜结晶度很差，晶粒度特别小，老板让我下次溅射的时候加上一定的负偏压试试，不知道这个负偏压对溅射过程有哪些影响，能不能提高溅射薄膜的结晶度，多谢各位大侠啦~
大恩不言谢，小女子直接

磁控溅射时加负偏压对薄膜结晶度的影响
薄膜表面形貌.jpg
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PVD ALD CVD
1楼 2016-03-25 20:11:47
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yangyueyf

银虫 (正式写手)
48楼2016-04-19 19:05:11
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chenjin

铁杆木虫 (著名写手)
基底加热会不会好一些。

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2楼2016-03-25 21:44:27
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yangyueyf

银虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by chenjin at 2016-03-25 21:44:27
基底加热会不会好一些。

基底加热对成分影响比较大，首先考虑负偏压

发自小木虫Android客户端
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PVD ALD CVD
3楼2016-03-25 22:50:47
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yangyueyf

银虫 (正式写手)
各位大侠有没有知道的啊
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PVD ALD CVD
4楼2016-03-26 09:34:49
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