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磁控溅射金属钨薄膜出现α-W与β-W两种相结构 已有1人参与
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磁控溅射金属钨薄膜通过XRD分析出现α-W与β-W两种相结构，是否可以通过EBSD来标定出α-W与β-W的分布呢，或者其它方法来在微区下标定其物相，下图为做的钨薄膜的SEM图，请指教！ C3A`F2PD1Y)D2WHT]7F5(TU.png  ODDZANU@A`8N}3%PWFPBP99.png |
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325114100: 金币+10, ★★★很有帮助 2016-05-26 08:26:39
325114100: 金币+10, ★★★很有帮助 2016-05-26 08:26:39
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ebsd 可以分析薄膜的取向。我最近也在做磁控溅射的薄膜ebsd，虽然一直没有做出来。 但是ebsd分析的薄膜晶粒尺寸要是小于50nm，就没有衍射花样了。曾看到北科大的一篇200nm晶粒 Cu薄膜的ebsd分析文章。薄膜制备中有应力，要做ebsd的话，需要去应力。可以采取热处理（退火），或者腐蚀去应力（用对应的金相腐蚀液）。薄膜的话，我还是推荐热处理去应力。因为宝宝采取腐蚀一直做不成啊。最近准备热处理试试看。 欢迎多多交流。 我是北科大的学生。 祝好运 |
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hihxl1
3楼2016-05-24 09:07:43
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