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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 重大装备 » 激光熔覆所用半导体激光器功率密度不够大，求解决办法
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花荷荷家

新虫 (初入文坛)

[求助] 激光熔覆所用半导体激光器功率密度不够大，求解决办法 已有1人参与

要做激光熔覆非晶涂层，设备功率6500W是满足要求的。但是由于光斑直径5mm，导致功率密度在10^4数量级，而做非晶涂层要达到10^5甚至10^6数量级，有没有解决办法还是及早放弃转其他课题。。。。。。。新人第一次发是这样发的吧
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1楼 2016-03-03 08:48:58
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shangjc2011

木虫 (正式写手)
你做的什么非晶啊？我们课题组也正在研究呢，去年我做了一些，没有做出来

发自小木虫Android客户端
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4楼2016-03-08 20:42:35
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rwthaachen

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

你们用的是什么激光器？光纤直径，准焦器，还有焦距是多少？
最简单的方法是换一个焦距短的镜头试试
还有你们测得时候没有在焦点上，要自己把焦距调调好。
但是光斑直径5mm，你确定没有量错么？我知道的不太可能有这么大的。
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2楼2016-03-06 18:25:32
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花荷荷家

新虫 (初入文坛)
半导体激光器，本是想借用其他学院仪器来做，现在放弃了，功率密度难达到，据说换个尺寸小的熔覆头可以，但是不便宜还是别人的仪器不方便哪，现在又改做非晶新成分了。。。宝宝心里苦但是宝宝不说
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3楼2016-03-08 18:56:32
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