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激光熔覆所用半导体激光器功率密度不够大，求解决办法 已有1人参与
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要做激光熔覆非晶涂层，设备功率6500W是满足要求的。但是由于光斑直径5mm，导致功率密度在10^4数量级，而做非晶涂层要达到10^5甚至10^6数量级，有没有解决办法还是及早放弃转其他课题。。。。。。。新人第一次发 是这样发的吧 |
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