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忘却の记忆

新虫 (小有名气)

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[求助] 进行XPS测试，刻蚀之后，氧化物峰相对于单质峰的位置变化了已有2人参与

采用的是Ge衬底，在上面溅射了一层La2O3，退火以后，界面处会被氧化，形成LaGeOx。如下图中最右边的峰为Ge衬底峰，中间的峰为LaGeOx。图1是表面的XPS，而图2 是刻蚀100s后的XPS，明显观察到LaGeOx和Ge衬底的结合能差从2.66下降到了2.35。另外做的在Ge上淀积Y2O3的样品也观察到相似现象。刻蚀后对氧化物的相对位置会有影响的么？那岂不是很难通过氧化峰相对于单质峰的位置来判断氧化态？

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1楼2016-01-21 16:30:20

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287164452

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2楼2016-01-22 09:21:46

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忘却の记忆

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引用回帖:

2楼: Originally posted by 287164452 at 2016-01-22 09:21:46
您刻蚀后校准数据了吗？刻蚀后数据会发生偏移，最好使用Ar离子校准下数据，还有就是，刻蚀会引起过渡态金属还原，如果您仅仅是为了清除表面大气吸附污染等小深度的层面，建议使用氩团簇刻蚀，最大化保留实际信息
...

刻蚀前后是相对于统一衬底峰位进行校准的。因为我主要关注界面处的信息，所以表面膜不能太厚，一般要稍作刻蚀。但刻蚀后发现Ge的氧化物峰相对于Ge衬底峰的相对平移减小了。（上图从2.66减小到了2.35）您的意思是刻蚀使得Ge的氧化物还原了，所以峰位置平移减小了么？