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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料物理 » 磁控溅射通氧一定要是高纯氧吗？普通的可以吗
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soul汽水

新虫 (小有名气)

[求助] 磁控溅射通氧一定要是高纯氧吗？普通的可以吗 已有3人参与

磁控溅射通氧一定要是高纯氧吗？普通的可以吗。用普通氧溅射会有什么问题吗
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1楼 2016-01-11 09:59:10
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cz.87101

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
磁控溅射通氧主要是反应气体，杂质气体反应的话，沉积的膜纯度就差了

看你沉积膜的要求，氧气又不贵，5N的纯度很常见的吧
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只有能打死的蚊子，没有能打死的小强！而偶就是打不死的小强！
2楼2016-01-11 22:06:01
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yuenoble

新虫 (初入文坛)
99.9%以上即可，一般能满足磁控溅射的工艺要求。部分要求特别高的磁控溅射可能纯度要求更高。
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3楼2016-01-13 22:40:32
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小白雪

木虫 (正式写手)

名字好幼稚的。。。

【答案】应助回帖

..普通氧气，你就不需要用高纯靶材了。还有考虑是否会导致靶材中毒啊。
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单身贵族。
4楼2016-01-14 10:58:25
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caojingpie

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

氧气不贵，用好点的吧
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5楼2016-01-14 11:32:11
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