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PWSCF计算的态密度和vasp软件计算得到的态密度不一致
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求助： 发现PWSCF计算的态密度和vasp软件计算得到的态密度定性上都有差别， pwscf计算得到的是金属性的，但是vasp计算得到的确实半导体特性的，真是晕倒了。 另外：关于PWSCF计算态密度和能带的步骤大家觉得这样对吗？ 态密度： relax-scf-nscf-dos 能带计算： relax-scf-nscf-bands pwscf的参数设置是： &control calculation='scf', prefix='abc' pseudo_dir = '/home//QE/pseudo', outdir='./', / &system ibrav = 0, nat= 4, ntyp= 3, ecutwfc = 40 ecutrho=400 occupations='tetrahedra' / &electrons electron_maxstep= 200 diagonalization='david' mixing_beta = 0.7 conv_thr = 1.0d-8 / 。。。。。。。。 vasp的INCAR设置： # Startparameter for this run: SYSTEM = test ENCUT = 400 eV NELM = 160 NELMIN = 8 EDIFF = 1.0E-05 # EDIFFG = -0.05 # NSW = 200 # IBRION = 2 # ISIF = 2 ISMEAR = 0 SIGMA = 0.2 LORBIT = 10 NEDOS=1000  图片1.png |
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