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[交流]
关于电镀银层的XRD表征
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本人遇到一个XRD问题,请教各位! 想用XRD表征添加剂A对银结晶取向的影响(银是通过电化学方面-电镀得到的): 最初选择Cu做基体来电镀银,但发现镀层厚度超过3 um时,银就会脱落。 银层薄了,无法消除铜基体结晶取向对银层生长取向的影响;想做厚又做不了。 (1)银层多厚时才能消除铜基体效应? (2)基体效应存在条件下,用XRD数据说明添加剂的存在对银结晶取向有影响(或无影响)是否科学? (3)是否有其他更合适的基体(要求导电)? (4)有什么方法提高银层在基体上的结合力? (5)银XRD强度是否与银层厚度有关? 问题较多,希望各位能帮忙! 回答不在多少,关键是大家一起讨论一下,谢谢! |
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2楼2008-09-25 08:23:04













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