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【讨论】纳米薄膜讨论
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大家可以讨论下，现在纳米薄膜的制备方法吗？ [ Last edited by wdwsnnu on 2008-9-19 at 22:44 ] |
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大笨猪和聪明羊(金币+3,VIP+0):谢谢应助^_^
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薄膜制备方法太多了 有两大类：化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD） 其中CVD的种类很多，除去最简单的CVD外，还有LPCVD（低压CVD），MOCVD（金属氧化物CVD），PECVD（等离子增强CVD）等等（具体含义还是google吧，我也不是很清楚  ）。主要都是利用气体进行分解沉积到衬底（基片）上成膜PVD相对来说简单一些，大多都是利用某种能量将靶材原子轰击出来在衬底（基片）上成膜，一般不涉及化学反应（不过也有反应溅射：即通入的气体参与了薄膜沉积）。如3楼mm提到的磁控溅射、脉冲激光沉积（PLD）、真空蒸镀等，此外还有一种精度相当高的技术：分子束外延（MBE）。 溶胶-凝胶（sol-gel）、旋涂是区别于气相沉积之外的薄膜制备工艺 就工业应用来说，CVD似乎已经工业化了，但是存在污染问题（化学方法都有这个问题）。物理方法里MBE精度最高，但成本也相当高。真空蒸镀速度较快，适于镀较厚的膜（具体多厚，俺也没有概念）。常用的、控制较好的可能是磁控溅射。 备注：我是做磁控溅射的，所以很多名词只是简单的知道，如果大家想了解具体情况，还是需要自己google，或者等待有识人士写篇综述，呵呵 |
10楼2008-09-23 15:47:04