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[交流] 【讨论】纳米薄膜讨论

大家可以讨论下，现在纳米薄膜的制备方法吗？

[ Last edited by wdwsnnu on 2008-9-19 at 22:44 ]

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1楼 2008-09-19 22:04:12

已阅回复此楼关注TA 给TA发消息送TA红花 TA的回帖

lulinsmann

木虫 (著名写手)

三无小小鸟

应助: 90 (初中生)
金币: 10459.2
散金: 125
红花: 7
帖子: 2465
在线: 693.4小时
虫号: 386161
注册: 2007-05-29
性别: GG
专业: 光学和光电子材料

★ ★ ★
大笨猪和聪明羊(金币+3,VIP+0):谢谢应助^_^

薄膜制备方法太多了
有两大类：化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）
其中CVD的种类很多，除去最简单的CVD外，还有LPCVD（低压CVD），MOCVD（金属氧化物CVD），PECVD（等离子增强CVD）等等（具体含义还是google吧，我也不是很清楚

）。主要都是利用气体进行分解沉积到衬底（基片）上成膜
PVD相对来说简单一些，大多都是利用某种能量将靶材原子轰击出来在衬底（基片）上成膜，一般不涉及化学反应（不过也有反应溅射：即通入的气体参与了薄膜沉积）。如3楼mm提到的磁控溅射、脉冲激光沉积（PLD）、真空蒸镀等，此外还有一种精度相当高的技术：分子束外延（MBE）。
溶胶-凝胶（sol-gel）、旋涂是区别于气相沉积之外的薄膜制备工艺
就工业应用来说，CVD似乎已经工业化了，但是存在污染问题（化学方法都有这个问题）。物理方法里MBE精度最高，但成本也相当高。真空蒸镀速度较快，适于镀较厚的膜（具体多厚，俺也没有概念）。常用的、控制较好的可能是磁控溅射。
备注：我是做磁控溅射的，所以很多名词只是简单的知道，如果大家想了解具体情况，还是需要自己google，或者等待有识人士写篇综述，呵呵