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langjia木虫 (正式写手)
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[求助]
微纳压印的光刻胶选择问题
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大家好，目前需要做实验 大概目的是复制模板的表面微纳结构： 原来的实验是：1、PMDS复制反模，2、有机无机杂化溶胶做正像结构，3、压印后掀起PMDS反模时，溶胶粘在反模结构中，无法成型。 现在这样想：1、光刻胶正性胶做反模，2、将刻胶反模压印，3、光照分解，洗掉反模，保留正像。 不知道这个想法是否可行，还有哪位大侠能推荐用什么光刻胶？ 十分感谢，回答请选应助，以便我给您加金币，谢谢！！ |
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