| 查看: 773 | 回复: 0 | ||
langjia木虫 (正式写手)
|
[求助]
微纳压印的光刻胶选择问题
|
|
大家好，目前需要做实验 大概目的是复制模板的表面微纳结构： 原来的实验是：1、PMDS复制反模，2、有机无机杂化溶胶做正像结构，3、压印后掀起PMDS反模时，溶胶粘在反模结构中，无法成型。 现在这样想：1、光刻胶正性胶做反模，2、将刻胶反模压印，3、光照分解，洗掉反模，保留正像。 不知道这个想法是否可行，还有哪位大侠能推荐用什么光刻胶？ 十分感谢，回答请选应助，以便我给您加金币，谢谢！！ |
回复此楼» 猜你喜欢
修改论文，如何借助其他力量？
已经有4人回复
-
中山大学潘越教授课题组2027级推免硕士研究生招生 新增一个专业医学技术名额
已经有21人回复
-
无机化学论文润色/翻译怎么收费?
已经有234人回复
-
哈尔滨工程大学国家级青年人才-27年申请考核制博士招生（材料、化学、生物医学专业）
已经有13人回复
-
HRTEM/原位TEM/HRSTEM检测｜价格优·周期短·可加急
已经有0人回复
-
大家平时也可以交流下
已经有1人回复
-
ELSEVIER旗下投稿decision in process后with editor，应该如何理解
已经有45人回复