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small421

新虫 (初入文坛)

[求助] 直流磁控溅射制备金属薄膜,薄膜中氧含量较高 已有2人参与

采用直流磁控溅射制备金属薄膜,直径30mm的小靶,制备的薄膜中一直含有氧,氧含量大于20at%。设备极限真空可以10-6Pa,Ar气也是5个9的高纯Ar气。由于设备限制,沉积前Si片为溅射清洗,但先在上面镀了几十nm的金层,之后再镀膜的。求各位大神赐教,谢谢!
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tianyahxw

新虫 (初入文坛)

靶材要做一下预处理,靶材表层已经被氧化
tianya
14楼2016-01-30 10:15:49
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small421

新虫 (初入文坛)

帖子不要沉哈,自己顶一个!
2楼2015-11-18 08:50:34
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muxiao-chong

木虫 (正式写手)

炉火纯青

热热热
3楼2015-11-18 08:53:23
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dwysd

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
楼主如何确定样品含O量在20at.%左右?
4楼2015-11-18 10:45:05
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