| 查看: 1496 | 回复: 16 | ||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||
[求助]
直流磁控溅射制备金属薄膜，薄膜中氧含量较高 已有2人参与
|
||
| 采用直流磁控溅射制备金属薄膜，直径30mm的小靶，制备的薄膜中一直含有氧，氧含量大于20at%。设备极限真空可以10-6Pa，Ar气也是5个9的高纯Ar气。由于设备限制，沉积前Si片为溅射清洗，但先在上面镀了几十nm的金层，之后再镀膜的。求各位大神赐教，谢谢！ |
回复此楼» 猜你喜欢
0703化学调剂
已经有12人回复
-
0703化学 305求调剂
已经有4人回复
-
0703化学调剂，求各位老师收留
已经有10人回复
-
271材料工程求调剂
已经有5人回复
-
281求调剂（0805）
已经有16人回复
-
304求调剂
已经有6人回复
-
材料工程专硕调剂
已经有6人回复
-
一志愿天大材料与化工（085600）总分338
已经有4人回复
-
085700资源与环境308求调剂
已经有3人回复
-
求材料调剂
已经有8人回复
11楼2015-11-19 08:26:06
2楼2015-11-18 08:50:34
muxiao-chong
木虫 (正式写手)
炉火纯青
- 应助: 3 (幼儿园)
- 金币: 509.5
- 散金: 1359
- 红花: 4
- 沙发: 3
- 帖子: 660
- 在线: 582.2小时
- 虫号: 3430300
- 注册: 2014-09-20
- 性别: GG
- 专业: 等离子体物理
3楼2015-11-18 08:53:23
dwysd
木虫 (著名写手)
- 应助: 66 (初中生)
- 金币: 3067.2
- 散金: 310
- 红花: 8
- 帖子: 1975
- 在线: 589.2小时
- 虫号: 538838
- 注册: 2008-04-03
- 专业: 半导体材料
4楼2015-11-18 10:45:05
