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shujian10088木虫 (正式写手)
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请成功制备过介孔SiO2 的高手帮忙指导指导我的问题 已有3人参与
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最近我一直在合成介孔二氧化硅，理想的结果是100~200 nm 的颗粒。参照了较多的文献做法，总有白色絮状物在溶液中生成，所以我也没有去做扫描，我觉得100 多纳米的颗粒应该不会是这样，但是重复了很多次，效果都差不多，不过也有文献直接说制备生成白色沉淀，直接烘干那沉淀就行，SEM扫描图也挺好看的。所以我想请教有经验的高手，你们介孔二氧化硅制备过程中，有哪些明显的实验现象，会不会也有沉淀或者絮状物生成，做电镜的时候是用烘干的固体还是用的上清液？ 我具体的实验做法：0.2g CTAB+100 mL水，滴加1mL NaOH（2M），加热到80度，至完全溶解，在剧烈搅拌下（注意了不让产生气泡）缓慢滴加 0.7mLTEOS（2 min 内完成），该温度下搅拌2小时，静置2小时。（参考许多文献上都是这个比例来做的） 而现象是：起初并无明显现象，当加完2~3分钟后溶液逐略显透明的白色，大概10分钟就全白了，不透明。后面随着反应时间的延长，溶液有时出现絮状物，有时出现白色沉淀，总是有白色固体在溶液中。 请不宁赐教啊  |
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shujian10088
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shujian10088
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