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光刻胶旋涂厚度的控制问题——望予以帮助,不甚感激。 已有2人参与
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最近的研究课题中突然涉及到旋涂光刻胶的工艺,由于没有实验设备,不能进行实验来进行测试,故在小木虫上求助做过相关研究的大神,望予以帮助,不甚感激! 问题是:在单晶硅片上旋涂UV-8光刻胶,若想把厚度控制在三四百纳米左右,其浓度和转速等参数为多少合适。 |
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2楼2015-11-15 21:56:08
yswyx
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