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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 工艺技术 » 膜技术 » 光刻胶旋涂厚度的控制问题——望予以帮助，不甚感激。
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H.B._Wang

银虫 (初入文坛)

[求助] 光刻胶旋涂厚度的控制问题——望予以帮助，不甚感激。 已有2人参与

最近的研究课题中突然涉及到旋涂光刻胶的工艺，由于没有实验设备，不能进行实验来进行测试，故在小木虫上求助做过相关研究的大神，望予以帮助，不甚感激！
问题是：在单晶硅片上旋涂UV-8光刻胶，若想把厚度控制在三四百纳米左右，其浓度和转速等参数为多少合适。
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力求无愧于心！
1楼 2015-11-13 13:29:33
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hwweven

至尊木虫 (知名作家)

医疗器械注册和审核

优秀版主

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
明亮的眼眸: 金币+2, 感谢h版应助 2015-11-16 23:21:11
H.B._Wang(明亮的眼眸代发): 金币+3 2015-12-04 23:24:27
这个得配一系列浓度，用一系列转速，慢慢去试。
虽然光刻胶挺贵，但也没办法，每个case都不会一样。
当然你也可以咨询下商家，问他们要个基准参数，由这个参数来调，省点时间。
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2楼2015-11-15 21:56:08
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
H.B._Wang(明亮的眼眸代发): 金币+2, 感谢y专家应助，欢迎常来工艺技术板块，期待你更多的精彩回帖。O(∩_∩)O 2015-11-19 23:19:03
H.B._Wang(明亮的眼眸代发): 金币+3 2015-12-04 23:24:34
粘度3cp左右，转速3000~7000 r/min
赞一下 回复此楼
3楼2015-11-19 14:09:52
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