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[求助]
光刻胶旋涂厚度的控制问题——望予以帮助，不甚感激。 已有2人参与
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最近的研究课题中突然涉及到旋涂光刻胶的工艺，由于没有实验设备，不能进行实验来进行测试，故在小木虫上求助做过相关研究的大神，望予以帮助，不甚感激！ 问题是：在单晶硅片上旋涂UV-8光刻胶，若想把厚度控制在三四百纳米左右，其浓度和转速等参数为多少合适。 |
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