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Gavin6152金虫 (小有名气)
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[求助]
磁控共溅射Cu-Ta薄膜,制得的薄膜大片剥落,求解已有15人参与
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si衬底室温磁控共溅射Cu-Ta薄膜，功率为200W/100W，沉积40min，制得的薄膜大片剥落，有人了解是怎么回事吗？难道是膜太厚？Cu/Ta功率为50W/250W时没出现剥落现象 279474988333634564.jpg |
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suifeng_muiq
金虫 (小有名气)
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【答案】应助回帖
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1，溅射时间太长致使基底温度过高；2，薄膜太厚。建议：1，尽可能降低循环水的温度，我们实验室循环水温度一般可以达到10度，可以很好地降低基底温度；2，分段溅射，即分为4个10分钟，中间停2分钟左右，但是这样会导致界面的出现，要注意。 发自小木虫Android客户端 |
51楼2015-11-17 00:04:28
2楼2015-11-11 22:16:59
xhj543240343
金虫 (著名写手)
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- 专业: 冶金物理化学与冶金原理
3楼2015-11-11 22:24:30
4楼2015-11-11 22:28:13