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binglvyin

银虫 (小有名气)

[交流] Wet etching 工艺腐蚀背部空腔,各位都是怎么保护正面微结构?

硅基底,正面有微电极Au和敏感层材料Ti,最小尺寸10μm,要在背部刻蚀空腔(绝热槽)。万能的虫友是采用哪种工艺进行保护的?如图,大家给点意见,谢谢~

Wet etching 工艺腐蚀背部空腔,各位都是怎么保护正面微结构?
1.jpg
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道生一,一生二,二生三,三生万物~~~
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binglvyin(金币+1): 谢谢参与
2楼2015-11-03 11:41:59
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binglvyin(金币+1): 谢谢参与
3楼2015-11-03 11:57:27
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
蠢一点儿的办法,会用protek这一类的进口材料做旋涂。
我们一般用贴膜保护,硅片外面一圈的器件就不要了,腐蚀好了就把膜去掉就好了。

» 本帖已获得的红花(最新10朵)

4楼2015-11-04 16:13:24
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binglvyin

银虫 (小有名气)

送红花一朵
引用回帖:
4楼: Originally posted by yswyx at 2015-11-04 16:13:24
蠢一点儿的办法,会用protek这一类的进口材料做旋涂。
我们一般用贴膜保护,硅片外面一圈的器件就不要了,腐蚀好了就把膜去掉就好了。

谢谢回帖,贴的是什么膜呢?能否耐强碱和水浴80°呢?还请您给点指导
道生一,一生二,二生三,三生万物~~~
5楼2015-11-04 17:04:18
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sunwh_cool

木虫 (正式写手)

★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
让硅片漂在水上面,或者夹着,背面和水接触
6楼2015-11-06 10:55:56
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sunwh_cool

木虫 (正式写手)

楼主的微热板有多大,是否有论文,供小弟我学习参考,谢谢
7楼2015-11-06 10:57:02
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