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cuili2011

新虫 (初入文坛)

[求助] 钕铜合金靶材问题请教 已有2人参与

钕铜合金靶材,直径两英寸,厚度八分之一英寸,直流磁控溅射,氩气,压力5mToor,50W,2000s后靶材一侧位置上方出现凹坑,下方出现凸起。调整靶材位置后,让凸起在上方后,共进行了两次实验,由于实验需要并考虑到凹坑位置可能被打穿的问题,每次实验条件为直流磁控溅射,氩气,压力5mToor,50W,35s。图片为最后一次实验完成后的靶材照片,凸起处未见明显变化,消耗仍然集中在同一侧。实验过程中仪器和循环水系统未见异常,该靶位之前进行其它实验时未出现过此类情况,靶材消耗均成均匀的圆环。想请教一下大家,出现问题的原因可能有哪些呢?谢谢大家啦!

钕铜合金靶材问题请教
钕铜合金靶材1.jpg


钕铜合金靶材问题请教-1
钕铜合金靶材2.jpg
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peterflyer

木虫之王 (文学泰斗)

peterflyer


【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与,应助指数 +1
cuili2011: 金币+2, 有帮助 2015-11-03 23:58:47
直观感觉是怀疑磁控溅射的磁场出现了问题。

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
2楼2015-11-03 20:22:03
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cuili2011

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by peterflyer at 2015-11-03 20:22:03
直观感觉是怀疑磁控溅射的磁场出现了问题。

这个靶位之前没出过问题,只能看看现在别的靶会不会这样了,谢谢!

发自小木虫Android客户端
3楼2015-11-03 23:58:15
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1-maker

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★
cuili2011: 金币+2, 有帮助 2015-11-20 23:18:56
感觉像磁场出问题了,粒子撞击不均匀,你先试试其他的靶,看有没有类似的现象。
4楼2015-11-18 09:14:02
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