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钕铜合金靶材问题请教 已有2人参与
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钕铜合金靶材，直径两英寸，厚度八分之一英寸，直流磁控溅射，氩气，压力5mToor，50W，2000s后靶材一侧位置上方出现凹坑，下方出现凸起。调整靶材位置后，让凸起在上方后，共进行了两次实验，由于实验需要并考虑到凹坑位置可能被打穿的问题，每次实验条件为直流磁控溅射，氩气，压力5mToor，50W，35s。图片为最后一次实验完成后的靶材照片，凸起处未见明显变化，消耗仍然集中在同一侧。实验过程中仪器和循环水系统未见异常，该靶位之前进行其它实验时未出现过此类情况，靶材消耗均成均匀的圆环。想请教一下大家，出现问题的原因可能有哪些呢？谢谢大家啦！ 钕铜合金靶材1.jpg  钕铜合金靶材2.jpg |
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