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蓝天白云3760铁虫 (小有名气)
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上转换 材料表面修饰 （氨基修饰TEOS与APTMS） 已有1人参与
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各位大神，我想用制备的UCNP和纳米金发生FRET，光谱重叠与材料电位条件都已经具备，就是两者的距离需要在有效范围内（1-10nm），但是我用氨基修饰材料后发现修饰的厚度太大了，有十几纳米了 TEOS的添加量可以影响硅壳的厚度，如果我不用TEOS，直接用APTMS，可以使得材料表面具有氨基并且水溶性好么？ 但是很多文献都是用 TEOS 与 APTMS，究其机理，望各位大神不吝赐教！ |
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