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zlj4165银虫 (著名写手)
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【请教】光刻去胶问题请教
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光刻显影后(5nm线宽,1微米厚的光刻胶(350nm)),在氧化层的硅片表面镀金30nm,镀完后,在丙酮泡30分钟都没有什么效果,去不了胶,照理说金的厚度并不至于把光刻胶包上啊,怎么就是去不了胶。 用超声试过,胶能去除,但是同时把需要的金薄膜也去除一部分了。 希望有经验的达人能指点一二,不胜感激 [ Last edited by caosw2001 on 2008-9-3 at 16:35 ] |
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