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zlj4165银虫 (著名写手)
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【请教】光刻去胶问题请教
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光刻显影后（5nm线宽，1微米厚的光刻胶（350nm）），在氧化层的硅片表面镀金30nm，镀完后，在丙酮泡30分钟都没有什么效果，去不了胶，照理说金的厚度并不至于把光刻胶包上啊，怎么就是去不了胶。 用超声试过，胶能去除，但是同时把需要的金薄膜也去除一部分了。 希望有经验的达人能指点一二，不胜感激 [ Last edited by caosw2001 on 2008-9-3 at 16:35 ] |
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