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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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zlj4165

银虫 (著名写手)

[交流] 【请教】光刻去胶问题请教

光刻显影后（5nm线宽，1微米厚的光刻胶（350nm）），在氧化层的硅片表面镀金30nm，镀完后，在丙酮泡30分钟都没有什么效果，去不了胶，照理说金的厚度并不至于把光刻胶包上啊，怎么就是去不了胶。
用超声试过，胶能去除，但是同时把需要的金薄膜也去除一部分了。
希望有经验的达人能指点一二，不胜感激

[ Last edited by caosw2001 on 2008-9-3 at 16:35 ]
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1楼 2008-09-03 16:27:46
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wqnow

木虫 (正式写手)
★
jackchen145(金币+1,VIP+0):3x，欢迎常来纳米版！
”5nm线宽“，这个牛。
金在光刻胶上面？？要是在下面不应该啊，光刻之后洗金然后除胶是吗？是不是光刻之后还有什么其他步骤把胶给搞固化了？
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2楼2008-09-03 22:08:35
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zlj4165

银虫 (著名写手)
没有固化，光刻后，显影，之后镀金，

接下来就想把光刻胶（上面有一层金）去除，但是不用超声的话去不掉。楼上的朋友是不是也做这一块的，能否加我QQ55645593，指点我一下？
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3楼2008-09-04 08:36:05
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quanbaogang

木虫 (正式写手)
★
jackchen145(金币+1,VIP+0):3x，欢迎常来纳米版！
楼主遇到的问题是lift-off困难的问题。
首先lift-off要有under-cut结构才能很好地进行，如果出现over-cut就会影响lift-off效果。当然如果镀膜方法选择得当，比如电子束蒸镀，也能让lift-off进行顺利些。
解决问题的主要办法就是获得under-cut结构，比如用双层胶工艺或用lift-off resist等。
另外，我知道有很多胶都有除胶剂，比如All resist公司的光刻胶就配有相应的除胶剂。
如果有兴趣楼主可以联系我。
最后，祝楼主工作顺利！
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4楼2008-09-05 18:02:53
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wqnow

木虫 (正式写手)
楼上的内行啊，我们那金都在光刻胶下面，没有这个问题
我不做这个
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5楼2008-09-06 02:29:58
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zlj4165

银虫 (著名写手)
谢谢楼上的帮忙。我是新手，对光刻了解不多。 quanbaogang ，能否推荐比较专业的书籍？我假如不用双层胶工艺，直接把一层光刻胶涂厚一点，再光刻的时间长一点，能否获得Under cut结构？还有，spin-coating时，你们用什么胶粘住硅片？我用双面胶总是很难取下来，并且双面胶总有些留在硅片上。麻烦推荐一种比较容易取下的胶。
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6楼2008-09-06 10:07:55
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zlj4165

银虫 (著名写手)
5微米，打错了，哈
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7楼2008-09-06 10:30:31
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quanbaogang

木虫 (正式写手)
★
大笨猪和聪明羊(金币+1,VIP+0):谢谢应助^_^
楼主做微米结构出了这种问题实在是不应该，哈哈！
你涂胶用到的涂胶台实在是简陋，怎么没有真空吸片功能呢？推荐买一款好的涂胶台。
胶涂厚了对你的工艺更加有害，建议涂1微米左右。
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8楼2008-09-06 17:03:51
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zlj4165

银虫 (著名写手)
★
wdwsnnu(金币+1,VIP+0):谢谢提供
楼主做微米结构出了这种问题实在是不应该，哈哈！
你涂胶用到的涂胶台实在是简陋，怎么没有真空吸片功能呢？推荐买一款好的涂胶台。
胶涂厚了对你的工艺更加有害，建议涂1微米左右。
======
我涂的是1微米厚度左右的，以前从来没有接触过这些东西，也没有人指点。所以，还没入门呢。请你多多指点。我现在想做多层工艺，就你的意见，能否给我推荐光刻胶呢？汞灯350nm都可以。
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9楼2008-09-08 08:18:54
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quanbaogang

木虫 (正式写手)
给你推荐你能买吗？你一个单位用一次就是1公升用多久才能用完啊？！
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10楼2008-09-19 16:07:55
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