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柠檬树

新虫 (著名写手)

[求助] 半导体方面的专业英语,急急急!求助翻译出一段英译汉,在线等

To avoid lateral growth and agglomeration of Cu after reflow, a selective deposition profile (thinner field coverage and thicker bottom coverage) is essential as it ultilizes the above-mentioned phenomenon to drive the Cu downwards in to the narrow structures, creating a bottom-up PVD fill.

英译汉!可以意译

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柠檬树

新虫 (著名写手)

小木虫的高手们啊 帮忙呀
我翻译了下 但感觉不怎么准确
2楼2015-09-24 16:49:43
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柠檬树

新虫 (著名写手)

再加十枚
3楼2015-09-25 07:14:55
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ssssllllnnnn

至尊木虫 (知名作家)

Translator and Proofreader


【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
柠檬树: 金币+20, 翻译EPI+1, ★★★★★最佳答案, anyway,thanks so much! 2015-09-25 09:00:55
对不起,不懂你的专业,但又看到你很着急,就尽力翻了。由于专业上的原因,很可能词不达意,需要你根据自己的专业加以调整。仅供参考:

为避免回流后铜的横向生长和聚集,一种选择性沉积剖面(较薄的场覆盖层和较厚的底部覆盖层)是必要的,因为它利用了上述现象驱动Cu下流到结构的狭部,形成自下而上PVD填充。
4楼2015-09-25 08:24:49
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