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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » 到底什么是low dose TEM？
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xuzhixiao

铁杆木虫 (著名写手)

Science, Technology and Art

[求助] 到底什么是low dose TEM？ 已有2人参与

对于有机小分子和聚合物晶体，用HRTEM 和 SAED对其晶体结构表征的时候，需要注意什么？
文献中我经常看到Low dose TEM 这种说法，到底需要做些什么处理，才会减少电子束对于样品的破坏
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1楼 2015-09-10 14:10:59
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xuzhixiao

铁杆木虫 (著名写手)

Science, Technology and Art
引用回帖:
7楼: Originally posted by papaverme at 2015-09-10 16:48:38
蚀刻常用于SEM表征，TEM的话，更多的是用染色。
你提到的也许是指蚀刻复型吧？先用溶剂或氧化剂或其他方法做蚀刻，然后在蚀刻出形貌的样品表面蒸镀碳层或金属层，漂下镀层，将镀层放到铜网上做TEM，镀层上能看到蚀 ...

有可能吧，确实是很老的文献在写要用蚀刻技术
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8楼2015-09-10 16:54:01
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gxytju2008

专家顾问 (文坛精英)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
xuzhixiao: 金币+10, ★★★很有帮助, thanks~ 2015-09-10 16:27:41
感觉不是对样品如何处理的问题嗯。。这个是个仪器操作手法或者有的特殊仪器，比如titan可以在这个模式下操作，就是用尽量低电子辐射量，但是拿到足够的分辨率，你做的时候可以考虑减小spot size，减低亮度等等，有球差校正当然是最理想的情况，或者可以考虑冷冻电镜，有时候对一部分不耐温样品也有帮助
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2楼2015-09-10 14:23:36
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papaverme

铁杆木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
xuzhixiao: 金币+10, ★★★很有帮助 2015-09-10 16:28:47
低剂量TEM或最小剂量TEM通常在设备上有特定的按钮或操作方法
原理上一般是偏转电子束到样品感兴趣区域的附近完成合轴对焦，然后偏转回感兴趣区域直接拍摄照片；或者用效弱的束流合轴对焦，用正常束流拍照，从而将感兴趣区域的曝光时间降到最低。
另外采用更灵敏的相机，有时候也称Low dose，也能减少曝光时间，从而减少样品损伤。

如果不用Low dose技术，采用冷场发射枪、低电压、小束流、适当镀碳、使用低温样品杆等等，都可能减少辐照损伤，依样品或设备条件选择。
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3楼2015-09-10 14:36:20
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xuzhixiao

铁杆木虫 (著名写手)

Science, Technology and Art
引用回帖:
2楼: Originally posted by gxytju2008 at 2015-09-10 14:23:36
感觉不是对样品如何处理的问题嗯。。这个是个仪器操作手法或者有的特殊仪器，比如titan可以在这个模式下操作，就是用尽量低电子辐射量，但是拿到足够的分辨率，你做的时候可以考虑减小spot size，减低亮度等等，有球 ...

好像聚合物晶体表征的时候需要做什么刻蚀处理
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4楼2015-09-10 16:27:30
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