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xuzhixiao铁杆木虫 (著名写手)
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到底什么是low dose TEM？ 已有2人参与
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对于有机小分子和聚合物晶体，用HRTEM 和 SAED对其晶体结构表征的时候，需要注意什么？ 文献中我经常看到Low dose TEM 这种说法，到底需要做些什么处理，才会减少电子束对于样品的破坏 |
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xuzhixiao: 金币+10, ★★★很有帮助 2015-09-10 16:28:47
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低剂量TEM或最小剂量TEM通常在设备上有特定的按钮或操作方法 原理上一般是偏转电子束到样品感兴趣区域的附近完成合轴对焦，然后偏转回感兴趣区域直接拍摄照片；或者用效弱的束流合轴对焦，用正常束流拍照，从而将感兴趣区域的曝光时间降到最低。 另外采用更灵敏的相机，有时候也称Low dose，也能减少曝光时间，从而减少样品损伤。 如果不用Low dose技术，采用冷场发射枪、低电压、小束流、适当镀碳、使用低温样品杆等等，都可能减少辐照损伤，依样品或设备条件选择。 |
3楼2015-09-10 14:36:20
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4楼2015-09-10 16:27:30
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【答案】应助回帖
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蚀刻常用于SEM表征，TEM的话，更多的是用染色。 你提到的也许是指蚀刻复型吧？先用溶剂或氧化剂或其他方法做蚀刻，然后在蚀刻出形貌的样品表面蒸镀碳层或金属层，漂下镀层，将镀层放到铜网上做TEM，镀层上能看到蚀刻后样品表面形貌的“影子”。个人认为，由于SEM分辨率的提高和对不导电样品的接受，蚀刻复型技术应该可以淘汰了。（可能除了用于生物样品的冷冻蚀刻复型以外） 发自小木虫Android客户端 |
7楼2015-09-10 16:48:38
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8楼2015-09-10 16:54:01
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9楼2015-09-10 16:54:29
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