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xuzhixiao铁杆木虫 (著名写手)
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到底什么是low dose TEM? 已有2人参与
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对于有机小分子和聚合物晶体,用HRTEM 和 SAED对其晶体结构表征的时候,需要注意什么? 文献中我经常看到Low dose TEM 这种说法,到底需要做些什么处理,才会减少电子束对于样品的破坏 |
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papaverme
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【答案】应助回帖
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感谢参与,应助指数 +1
xuzhixiao: 金币+10, ★★★很有帮助 2015-09-10 16:28:47
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低剂量TEM或最小剂量TEM通常在设备上有特定的按钮或操作方法 原理上一般是偏转电子束到样品感兴趣区域的附近完成合轴对焦,然后偏转回感兴趣区域直接拍摄照片;或者用效弱的束流合轴对焦,用正常束流拍照,从而将感兴趣区域的曝光时间降到最低。 另外采用更灵敏的相机,有时候也称Low dose,也能减少曝光时间,从而减少样品损伤。 如果不用Low dose技术,采用冷场发射枪、低电压、小束流、适当镀碳、使用低温样品杆等等,都可能减少辐照损伤,依样品或设备条件选择。 |
3楼2015-09-10 14:36:20
gxytju2008
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2楼2015-09-10 14:23:36
xuzhixiao
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4楼2015-09-10 16:27:30
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papaverme
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6楼2015-09-10 16:35:14
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【答案】应助回帖
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蚀刻常用于SEM表征,TEM的话,更多的是用染色。 你提到的也许是指蚀刻复型吧?先用溶剂或氧化剂或其他方法做蚀刻,然后在蚀刻出形貌的样品表面蒸镀碳层或金属层,漂下镀层,将镀层放到铜网上做TEM,镀层上能看到蚀刻后样品表面形貌的“影子”。个人认为,由于SEM分辨率的提高和对不导电样品的接受,蚀刻复型技术应该可以淘汰了。(可能除了用于生物样品的冷冻蚀刻复型以外) 发自小木虫Android客户端 |
7楼2015-09-10 16:48:38
xuzhixiao
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8楼2015-09-10 16:54:01
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9楼2015-09-10 16:54:29
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