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残缺2012

新虫 (初入文坛)

应助: 0 (幼儿园)
金币: 1147.4
散金: 81
帖子: 33
在线: 13.7小时
虫号: 3029600
注册: 2014-03-08
性别: MM
专业: 金属材料的磨损与磨蚀

[求助] 等离子体增强原子层沉积（PEALD）制备TiO2薄膜已有1人参与

用等离子体增强原子层沉积（PEALD）制备TiO2薄膜，主要是想在低温下（100℃）能将其成功沉积，前驱体源为四异丙醇钛（TTIP）和O2等离子体，基底是单面抛光的P型硅片，载气为Ar，具体参数如下，请虫友们帮我分析下那个参数不合理导致实验老失败
Heater： 100℃
Purge： 120℃
Pumpline： 150℃
TTIP源瓶加热温度：65℃
Chamber： 100℃
反应工艺压力：0.15 torr
根据0.15torr的反应压力，设置载气流量，有三个Ar的管道，流量分别为30，20,16 sccm
O2等离子体的流量20 sccm
Plasma的功率：150W
配方： Dose—Reaction--Purge—Plasma—Purge—Goto—End
1s 2s 100s 15s 40s 500次

以前在TALD上做过TiO2，沉积温度是200℃，现在主要研究低温沉积，所以用了PEALD-100A设备，我觉得影响因素较大的应该是配方中的Dose时间，我试过0.5s，1s和2s，都没有用，请各位大神们指点一二~。~

IMG_6272.JPG

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