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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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c402073239

金虫 (正式写手)

[求助] 原料药中杂质与辅料干扰问题 已有1人参与

各位高手:
     最近碰到一个问题,情况是这样:
原料药中有杂质A、B、C、D、E、F、G,分析方法1:控制杂质A、B、C、D;分析方法2:控制杂质E、F、G
分析方法3:控制异构体
通过破坏试验、影响因素试验、长期加速试验得知:杂质A、B、C、D、E、F、G、异构体等均无明显变化。
制剂方法:参照进口注册方法,分析方法色谱条件只控制单杂,总杂质(限度单杂不大于1.0%,总杂质不大于2.0%)

试问:1、制剂有关物质方法是否可以参照进口注册方法进行控制,对于原料药中已知杂质在原料药成品中进行控制,制剂中不再研究,是否可以?(用制剂中有关物质方法,对原料中已知杂质进行定位,部分杂质专属性不好。)
2、制剂产品规格为0.7mg/片,每日1片,根据ICH Q3b新制剂的杂质要求(每日最大剂量小于10mg,杂质限度小于1.0%),仿制药中产品的单杂和总杂质限度制定多少合理?
3、制剂产品中辅料峰大约在8分钟之前,辅料峰在检测波长230nm处响应较大,试问如何证明,在破坏试验中,制剂产品中主药在辅料峰中没有产生干扰杂质?


希望各位高手提出好的建议,
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c402073239

金虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by qiaofei at 2015-08-07 09:31:21
1.制剂有关物质方法可以参照进口注册方法进行控制,但是你仍需要对其注册方法进行验证。对于原料药中已知杂质在原料药成品中进行控制,如果是稳定的杂质制剂中可以不再研究,如果是降解杂质那是要在制剂中进行控制的 ...

2、单杂制定0.2%,总杂质制定0.5%,应该可以了。
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3楼2015-08-07 10:18:23
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qiaofei

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
c402073239: 金币+5, ★★★★★最佳答案, 欢迎多多交流!!! 2015-08-07 10:17:12
1.制剂有关物质方法可以参照进口注册方法进行控制,但是你仍需要对其注册方法进行验证。对于原料药中已知杂质在原料药成品中进行控制,如果是稳定的杂质制剂中可以不再研究,如果是降解杂质那是要在制剂中进行控制的。
2.根据ICH规定以及进口注册方法,自己制定了
3、做破坏试验你可以同时做辅料,制剂,API的破坏,来查看主药在辅料峰中没有产生干扰杂质
2楼2015-08-07 09:31:21
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