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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 表面氧气等离子体刻蚀处理 可以提高光刻胶的粘附性吗
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织知

铜虫 (小有名气)

[交流] 表面氧气等离子体刻蚀处理 可以提高光刻胶的粘附性吗

在spin coating之前通常会进行氧气等离子刻蚀的处理 在去除杂质的时候 也会使硅片表面暴露更多的羧基 请问一下这些羧基会有利于光刻胶的粘附吗
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1楼 2015-08-01 00:34:54
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石银东

木虫 (正式写手)
★
织知(金币+1): 谢谢参与
用纯氧作为气源，进行等离子表面处理，可以达到刻蚀的目的，同时会附带其它的功能，比如让硅片的表面暴露更多的羧基，是有利于后序光刻胶的粘接，这一点是肯定的。

但是有个缺点，你要注意，那就是这种在硅片表面的羧基是不稳定的，时效性非常短，一般来讲也就是十几分钟到半小时的时效性，感兴趣可以留下您的扣扣，交流下。
赞一下(3人) 回复此楼
23楼2015-08-01 08:55:20
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简单回复
zhchzhsh20767楼
2015-08-01 01:50   回复  
织知(金币+1): 谢谢参与
查看全部 25 个回答
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