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织知

铜虫 (小有名气)

应助: 3 (幼儿园)
金币: 89.3
帖子: 57
在线: 27.1小时
虫号: 1348129

[交流] 表面氧气等离子体刻蚀处理可以提高光刻胶的粘附性吗

在spin coating之前通常会进行氧气等离子刻蚀的处理在去除杂质的时候也会使硅片表面暴露更多的羧基请问一下这些羧基会有利于光刻胶的粘附吗

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1楼 2015-08-01 00:34:54

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石银东

木虫 (正式写手)

应助: 139 (高中生)
金币: 6411.1
帖子: 927
在线: 909.6小时
虫号: 3564733

★
织知(金币+1): 谢谢参与

用纯氧作为气源，进行等离子表面处理，可以达到刻蚀的目的，同时会附带其它的功能，比如让硅片的表面暴露更多的羧基，是有利于后序光刻胶的粘接，这一点是肯定的。

但是有个缺点，你要注意，那就是这种在硅片表面的羧基是不稳定的，时效性非常短，一般来讲也就是十几分钟到半小时的时效性，感兴趣可以留下您的扣扣，交流下。