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织知

铜虫 (小有名气)

[交流] 表面氧气等离子体刻蚀处理 可以提高光刻胶的粘附性吗

在spin coating之前通常会进行氧气等离子刻蚀的处理 在去除杂质的时候 也会使硅片表面暴露更多的羧基 请问一下这些羧基会有利于光刻胶的粘附吗
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1楼 2015-08-01 00:34:54
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石银东

木虫 (正式写手)
★
织知(金币+1): 谢谢参与
用纯氧作为气源，进行等离子表面处理，可以达到刻蚀的目的，同时会附带其它的功能，比如让硅片的表面暴露更多的羧基，是有利于后序光刻胶的粘接，这一点是肯定的。

但是有个缺点，你要注意，那就是这种在硅片表面的羧基是不稳定的，时效性非常短，一般来讲也就是十几分钟到半小时的时效性，感兴趣可以留下您的扣扣，交流下。
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23楼2015-08-01 08:55:20
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jeryharvey

银虫 (正式写手)
★
织知(金币+1): 谢谢参与
co ask
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10楼2015-08-01 04:15:36
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天国之王

新虫 (小有名气)
★
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引用回帖:
23楼: Originally posted by 石银东 at 2015-08-01 08:55:20
用纯氧作为气源，进行等离子表面处理，可以达到刻蚀的目的，同时会附带其它的功能，比如让硅片的表面暴露更多的羧基，是有利于后序光刻胶的粘接，这一点是肯定的。

但是有个缺点，你要注意，那就是这种在硅片表面 ...

你好：
    表面氧气等离子体刻蚀处理，对于不是硅基底的起作用吗？比如说PI胶带！！
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24楼2015-10-20 21:41:19
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石银东

木虫 (正式写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
引用回帖:
24楼: Originally posted by 天国之王 at 2015-10-20 21:41:19
你好：
    表面氧气等离子体刻蚀处理，对于不是硅基底的起作用吗？比如说PI胶带！！...

可以的，会有效果，不知道你是想要通过这个方法达到什么效果，也可以给我寄点样品，处理下看看。

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25楼2015-10-20 23:41:47
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syhorchid2楼
2015-08-01 00:35   回复  
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syhorchid3楼
2015-08-01 00:35   回复  
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youngen4楼
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zhchzhsh20766楼
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zhchzhsh20767楼
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dmbb8楼
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guanlianwu9楼
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tbs2011楼
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tbs2012楼
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jixiangbao13楼
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jixiangbao14楼
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shenrenren15楼
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假大空16楼
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jiantu18楼
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xhmaohan20楼
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