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在Cu基体上镀10um厚度单质Si膜（CVD或者溅射等方法） 已有1人参与
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想在抛光后的Cu基底上镀10um厚度以上的单质Si膜，要求Si膜表面的粗糙度比较小。目前用磁控溅射只能做到数百nm的厚度，想再做厚一点，所以考虑CVD，或者有更好的方法么？请教各位哪里可以制备？如果有联系方式更好啦，如涉及到隐私可以站内给我哈，谢谢~ 第一次发帖，如有不妥之处，请指正。 |
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5楼2015-07-23 20:59:22