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在Cu基体上镀10um厚度单质Si膜(CVD或者溅射等方法) 已有1人参与
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想在抛光后的Cu基底上镀10um厚度以上的单质Si膜,要求Si膜表面的粗糙度比较小。目前用磁控溅射只能做到数百nm的厚度,想再做厚一点,所以考虑CVD,或者有更好的方法么?请教各位哪里可以制备?如果有联系方式更好啦,如涉及到隐私可以站内给我哈,谢谢~ 第一次发帖,如有不妥之处,请指正。 |
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kit yourself
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wanghuaxing 
禁虫 (小有名气)
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