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SunShine-91木虫 (正式写手)
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[求助]
大家帮我看看这几句话有没有语病
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1.Silica network densified and small holes sealed because of structural adjustment during heating process, and thus the oxidation was stopped at lower temperature. 2.The oxidation resistance temperature was improved at least 40℃ than the previous work . Meanwhile, the oxidation ended at 673 and 693℃ for samples 1 and 2 which is lower than pristine UFDs. |
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