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Ag单晶表面溅射退火循环处理的条件该怎样搭配优化才能得到大面积台阶
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| 国产单晶，切割角度较大（表面台阶较密，台面小），同批次单晶在之前的仪器中使用之前的建设退火参数处理后，随着处理次数的增加，台阶慢慢聚集，台面逐渐变大，这正是实验所需要的条件。现在换了台新仪器后，使用与之前仪器相近的退火溅射参数进行多次单晶处理后发现得不到需要的大台面结果。有尝试故意提高或降低退火温度，也没能改善处理所得台面尺寸。文献查询也没有相关表面处理规律的文章可参考。所以请教下大家，高能量／低能量的离子束溅射处理和高温度／低温度的退火温度改怎么搭配才能得到台面逐渐扩大的效果？ |
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