在石英片上溅射一层Pt - 微米和纳米 - 学术交流 - 小木虫论坛-学术科研互动平台

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1楼 2015-05-18 18:07:13

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fyl1989

金虫 (正式写手)

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专业: 半导体晶体与薄膜材料

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zhanghf01: 金币+1 2015-05-19 10:18:03

一般粘附层没有用溅射做的，都是用蒸发，能买得起Pt靶，想必楼主那科研条件还不错，建议用蒸发做，尤其是那么薄的Pt。如果不可实现，至少粘附层用蒸发做，然后溅射Pt，用AFM或SEM看看是否是连续的。

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5楼2015-05-19 08:34:23

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fyl1989

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zhanghf01: 金币+3 2015-05-20 00:04:08

引用回帖:

6楼: Originally posted by zhanghf01 at 2015-05-19 10:18:05
谢谢，再问一下，为什么粘附层没有用溅射做的，如果我溅射20nm的Ti作为粘附层，可以吗？...

因为粘附层需要覆盖性好，蒸发的原理不是在衬底上成核生长，而是整个一层铺上去，所以会较为平整地覆盖在衬底上，而溅射由于是成核生长，覆盖性往往不好，所以建议用蒸发做粘附层。
而且本来溅射的Pt就不一定是连续的，再加上底下不是很连续的溅射的金属粘附，所以实验可控性更低了。
如果蒸发Ti或Cr实在难实现，可试试这样：用比较慢的生长速率（尤其是靶基距较大为好）去生长粘附层金属，是之尽量保持平整和均匀覆盖，再长Pt。
如果怕破真空形成表面氧化层，可溅射Cr作为粘附层，因为它在空气中是抗氧化的，方法和上面一样。

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7楼2015-05-19 13:43:24

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