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关于AuCu双金属纳米线修饰玻碳电极检测过氧化氢的问题 已有1人参与
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本人正在做AuCu纳米线方面的毕业论文，但是根据文献做出的结果却相差甚远，文献中的CV扫描如下：[img][eimg]2015/0505/w110h3331855_1430790471_959.gif|[/img] 文献中的电流时间曲线图： http:// ![\"关于AuCu双金属纳米线修饰玻碳电极检测过氧化氢的问题\"](\"https://muchongimg.xmcimg.com/data/bcs/2015/0505/w109h3331855_1430791555_625.gif#opennewwindow\") 但是本人做出的结果却发现，修饰的电极在只在PH=6,.5的PBS缓冲溶液中做CV扫描在0.4V左右就有峰，和文献中不一致，而且扫描多圈在0.4V那个峰的电信号下降（图如下），不知道是不是纳米材料不稳定分解产生的，求有哪位老师或虫友知道在0.4V左右发生的反应到底是什么。 修饰的电极在PH=6.5的PBS中扫描5圈的CV扫描图  [/img]问题1：我做的材料在PBS缓冲溶液中出现的0.4V左右的峰发生了什么反应，是纳米材料分解造成的吗？和文献中出现的O.4V左右的峰有没有什么关系。 问题2：文献中的电流时间曲线是不是有问题，20uM以后怎么还有阶梯。而且4-10 ，10-20uM中的阶梯数也不对啊。 问题3:AuCu纳米线有什么好的合成方法，本人用的是NaBH4还原，参考的文献是Detection of H2O2 at the Nanomolar Level by Electrode Modified with Ultrathin AuCu Nanowires 希望各位老师帮帮忙，学生在此感激不尽  11.gif  22.gif |
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【答案】应助回帖
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感谢参与，应助指数 +1
falsemasker: 金币+200, ★★★很有帮助 2015-05-10 14:31:35
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falsemasker: 金币+200, ★★★很有帮助 2015-05-10 14:31:35
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第一个问题：如果你的出峰现象是随着扫描圈数的进行而下降，那么我觉得你的0.4V出峰应该是催化剂分解产生的，和文献报道的没有关系； 第二个问题：关于I-t时间电流曲线这个文献报道是正常的，因为你加入的量是有自己来控制的，并没有过多的规则，20uM出现台阶，这样才能更说明修饰电极的稳定性，在大浓度Glu下强催化能力和抗干扰能力； 第三个问题：关于金属纳米线合成的一些文献，你可以多看看夏幼南课题组，比较强大。 希望对你有帮助。PS：你发的这篇文献我去年看过，美国分析化学上的，比较靠谱~ |
2楼2015-05-05 16:29:52
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