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铜虫 (小有名气)

[求助] 关于AuCu双金属纳米线修饰玻碳电极检测过氧化氢的问题 已有1人参与

本人正在做AuCu纳米线方面的毕业论文,但是根据文献做出的结果却相差甚远,文献中的CV扫描如下:[img][eimg]2015/0505/w110h3331855_1430790471_959.gif|[/img]
文献中的电流时间曲线图: http://\"关于AuCu双金属纳米线修饰玻碳电极检测过氧化氢的问题\"

但是本人做出的结果却发现,修饰的电极在只在PH=6,.5的PBS缓冲溶液中做CV扫描在0.4V左右就有峰,和文献中不一致,而且扫描多圈在0.4V那个峰的电信号下降(图如下),不知道是不是纳米材料不稳定分解产生的,求有哪位老师或虫友知道在0.4V左右发生的反应到底是什么。
修饰的电极在PH=6.5的PBS中扫描5圈的CV扫描图关于AuCu双金属纳米线修饰玻碳电极检测过氧化氢的问题-1[/img]

问题1:我做的材料在PBS缓冲溶液中出现的0.4V左右的峰发生了什么反应,是纳米材料分解造成的吗?和文献中出现的O.4V左右的峰有没有什么关系。
问题2:文献中的电流时间曲线是不是有问题,20uM以后怎么还有阶梯。而且4-10 ,10-20uM中的阶梯数也不对啊。
问题3:AuCu纳米线有什么好的合成方法,本人用的是NaBH4还原,参考的文献是Detection of H2O2 at the Nanomolar Level by Electrode Modified
with Ultrathin AuCu Nanowires


希望各位老师帮帮忙,学生在此感激不尽

关于AuCu双金属纳米线修饰玻碳电极检测过氧化氢的问题-2
11.gif


关于AuCu双金属纳米线修饰玻碳电极检测过氧化氢的问题-3
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YA-简选

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

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感谢参与,应助指数 +1
falsemasker: 金币+200, ★★★很有帮助 2015-05-10 14:31:35
第一个问题:如果你的出峰现象是随着扫描圈数的进行而下降,那么我觉得你的0.4V出峰应该是催化剂分解产生的,和文献报道的没有关系;
第二个问题:关于I-t时间电流曲线这个文献报道是正常的,因为你加入的量是有自己来控制的,并没有过多的规则,20uM出现台阶,这样才能更说明修饰电极的稳定性,在大浓度Glu下强催化能力和抗干扰能力;
第三个问题:关于金属纳米线合成的一些文献,你可以多看看夏幼南课题组,比较强大。
希望对你有帮助。PS:你发的这篇文献我去年看过,美国分析化学上的,比较靠谱~
求实、创新
2楼2015-05-05 16:29:52
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铜虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by YA-简选 at 2015-05-05 16:29:52
第一个问题:如果你的出峰现象是随着扫描圈数的进行而下降,那么我觉得你的0.4V出峰应该是催化剂分解产生的,和文献报道的没有关系;
第二个问题:关于I-t时间电流曲线这个文献报道是正常的,因为你加入的量是有自 ...

谢谢了的回复,关于问题2 ,我截图的那个时间电流曲线图在10uM和20uM直接其实是还有个20uM的标注的,被那代码覆盖了,就是说明在20uM后没加过氧化氢电流时间曲线还是有阶梯的!这是怎么回事?

[ 发自小木虫客户端 ]
3楼2015-05-10 14:30:24
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