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求助:高纯铝靶材对杂质元素的要求
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[
求助
]
求助:高纯铝靶材对杂质元素的要求
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请问有没有做高纯铝靶材的啊?
有做相同方向的,或者高纯铝靶材生产或使用厂家也行。
我想知道高纯铝靶材对杂质元素有什么样的要求,比如含量应该控制在多少以内啊,哪些杂质元素要严格控制,或者杂质元素会对靶材产生哪些影响之类的?
有人知道不,知道的话麻烦告诉一下哈!先谢谢啦O(∩_∩)O~
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2015-04-29 15:47:45
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北飞雁-
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Originally posted by
7216胡
at 2015-04-30 09:54:09
网上有个电子薄膜制备用高纯铝及铝合金靶材的送审稿。上面指出在电子薄膜应用上主要杂质元素为K Na Li 碱金属,U和Th放射元素以及Fe,Ni,Cr等重金属。你是做高纯铝什么方面的?
谢谢你啊,那个我昨天也看到了,其实我还找到一个“电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材”的标准,就是我们公司买的那数据库要人工传递,太慢了,我下了一天还没有下下来
我们是打算做高纯铝靶材的,目前是想知道对杂质元素的具体含量限制的一些数据的
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5楼
2015-04-30 10:55:40
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呃……没有人来
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2楼
2015-04-29 15:54:58
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2015-04-30 10:57:55
严格来讲,高纯铝是指纯度在5N及其以上的铝材料。用于TFT平面显示器甚至半导体集成电路镀膜之用。因此对杂质(大约有近四十种元素)要求较为严格。具体的可参考这两年出台的国家高纯铝磁控溅射靶材相关标准和一些用偏析法生产高纯铝材料的相关企业标准。
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3楼
2015-04-29 23:33:32
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7216胡
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北飞雁-: 金币+2
2015-04-30 10:58:03
网上有个电子薄膜制备用高纯铝及铝合金靶材的送审稿。上面指出在电子薄膜应用上主要杂质元素为K Na Li 碱金属,U和Th放射元素以及Fe,Ni,Cr等重金属。你是做高纯铝什么方面的?
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有志者事竟成!破釜沉舟,卧薪尝胆
4楼
2015-04-30 09:54:09
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