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freeman3

铁虫 (小有名气)

[交流] 【求助】急问-请教薄膜方面专家

急问-请教薄膜方面专家
最近想做一些物理法渡膜的工作,但是对有些基本的问题还不是太懂,在这里请教一下。

对于目前常用的镀膜方法,比如 electron-beam deposition, ion-beam depositon(Ar+), radio-frequency 磁控溅射,这三个方法比起来,是不是在精确度方面e-beam>ion-beam>磁控溅射?

  此外,film的质量呢?比如多孔性,疏松性,结晶性质等,是否有什么区别?

我现在用的是Ar离子辅助的 ion-beam deposition,所以更想知道这个方法得到的膜的一些特征(target为SiO2,设备为Gatan 682 precise etching and deposition system)。

非常感谢

[ Last edited by caosw2001 on 2008-8-28 at 09:24 ]
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hrandy

金虫 (正式写手)


caosw2001(金币+1,VIP+0):谢谢应助
如果想做器件,磁控溅射lift-off会比较困难,图案准确性差,而且造成衬底发热可能造成掩模的损伤。E-Beam会好点,图案的准确性好一些。
2楼2008-07-08 17:56:00
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freeman3

铁虫 (小有名气)

嗯,我现在还没有到器件这一步,主要是想先看看利用ion-beam 渡上去的film的性质,比如多孔性/结晶性等。不知道ion-beam渡的SiO2 film是否呈现多孔的性质?
最起码来说,这种方法得到的film应该没有热氧化Si片得到的那么致密和均匀,是不是呢?

谢谢
3楼2008-07-08 18:47:55
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