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铜虫 (初入文坛)

[交流] 有没有人采用CVD制备MoS2薄膜的进来交流一下 已有11人参与

实验屡战屡败，屡败屡战。在线等大神
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薄膜制备与特性 CVD二维材料

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1楼 2015-04-15 10:54:42
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homebaby

金虫 (小有名气)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
温度太低了，我以前做过，650度左右是在基片上制备二氧化钼模板，反应时间为20min左右   温度要再升高到850度反应3h，开始生成二硫化钼。
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5楼2015-04-16 07:57:23
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jl597769833

新虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
我也是，做了好多次都失败了！
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2楼2015-04-15 12:30:53
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00丢丢

铜虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by jl597769833 at 2015-04-15 12:30:53
我也是，做了好多次都失败了！

聊一聊你们大概的工艺条件步骤，

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3楼2015-04-15 14:18:27
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00丢丢

铜虫 (初入文坛)
目前为止我有采用750度和700读时的，采用MoO3和S共蒸发。以二氧化硅作为基片，我考虑过平放在钼源下游也考虑过扣在坩埚上了。反应结果在二氧化硅表面用光学显微镜没能看到光斑。能看到一点MoO3的黄点点

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4楼2015-04-15 17:05:10
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