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中南马如龙

金虫 (著名写手)

[求助] 请问还原峰电流与扫描速度的平方根呈正比,说明铜的还原过程为扩散控制过程 已有1人参与

还原峰电流与扫描速度的平方根呈正比,说明铜的还原过程为扩散控制过程,还原峰电流与扫描速度呈正比,说明铜的还原过程为表面控制过程

这个结论怎么得到的?具体根据什么公式?求各位大神解答。最好能够给出那本书的多少页,那个具体公式,多谢。
本人小白,要不然不懂。多谢了!!!
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fanxuliang90

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
中南马如龙: 金币+20, ★★★★★最佳答案 2015-04-17 08:52:46
判断扩散控制,应该是根据Randles-Sevcik方程,在巴德那本电化学方法第六章循环伏安那一块有。表面控制的话我理解是与离子扩散没有关系,和电子有关,扫速增大,提供电子速度快,峰电流随之增加,所以与扫速成正比
无牵无挂。。自己努力
2楼2015-04-15 11:02:02
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中南马如龙

金虫 (著名写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by fanxuliang90 at 2015-04-15 11:02:02
判断扩散控制,应该是根据Randles-Sevcik方程,在巴德那本电化学方法第六章循环伏安那一块有。表面控制的话我理解是与离子扩散没有关系,和电子有关,扫速增大,提供电子速度快,峰电流随之增加,所以与扫速成正比

好的,我看看,多谢你了。
3楼2015-04-17 08:53:52
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